在研究人员发现黑磷在电子设备的未来中起着至关重要的作用之后，黑磷已经有100多年的历史了。
耶鲁大学工程与科学系副教授夏风年领导的耶鲁大学研究人员发现，由于以前因缺乏使用而被淘汰，黑磷有可能取代硅作为电子的主要材料。
研究人员说，这种元素只有几个原子层厚，可以提供新一代的小型设备，柔性电子设备和更快的晶体管。
这是由于两个关键属性。首先是与硅相比，它具有更高的迁移率（即电荷携带的速度），第二是具有带隙。带隙使材料具有充当开关的能力-能够在存在电场的情况下打开和关闭并充当半导体。这与具有高迁移率但没有带隙的石墨烯相反。
确定一种控制黑磷带隙的方法是解锁其可能应用的关键。
研究人员发现，可以将其带隙控制在一定的厚度，并通过在该厚度处施加垂直电场，研究人员可以“调节”带隙，并将适度的间隙缩小到其闭合点。
这释放了该材料在包括夜视设备，成像工具，中红外光调制器和其他光电技术在内的一系列应用中使用的可能性。
该研究的主要作者和博士学位的邓炳辰说：“在进行这项研究之前，无法动态调节黑磷的带隙，从而限制了其在光电子学中的应用。”霞实验室的学生说。
邓补充说，具有可控制的带隙意味着黑磷有可能被用作拓扑绝缘体，这种材料具有在绝缘体（在材料内部）和导体（在其表面上）工作的非同寻常的能力。
拓扑绝缘子对研究人员非常感兴趣，因为它们对于开发低功耗电子产品可能很重要。
黑磷研究发表在《自然通讯》杂志上。
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